•             
    当前位置:网站首页 > 技术中心

    技术中心 Technology

    EMI防电磁干扰镀膜技术分析
    发布时间:2015-01-07 浏览:4671 次

      EMI屏蔽镀膜(防电磁干扰)采用等离子体表面处理技术 ,利用真空蒸发和磁控溅射镀膜工艺相结合 ,以真空蒸发镀Ag 、Cu ,以磁控溅射镀Ni ,实现EMI(电磁屏蔽)薄膜。

           EMI(电磁屏蔽)膜专用镀膜设备应用于笔记本电脑、医疗器材  、电信设备 、手机 、汽车等电子产品塑胶外壳表面镀制EMI(电磁屏蔽)薄膜。

      EMI防电磁干扰镀膜的工作原理:首先在10-7 Torr 高度真空状态下 ,充入适量氩气;其次施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金属靶材,溅射出金属离子;最后就是金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上 ,形成金属离子薄膜。

     

    推荐阅读

    氧化钒镀膜薄膜技术

    电子束蒸发镀膜机介绍

      
    网站地图