1.清洗前

，看片子是否短路
，是否大小与样品托合适
，蒸镀时放样品托的架子升最高

，且旋转。

　　2.打开电流开关








，及时打开ABC舟中一个


，打开束源炉



，及时打开其中一个启动A、B等
。

　　3.掺杂材料用量覆盖舟底即可
。

　　操作步骤

：

　　1


、打开总开关
，包括冷却水开关和机器开关。

　　2

、打开镀膜机总开关，样品旋转开关
，升降开关按钮
。

　　3
、将玻璃基板至于样品托中
，导电一面向下
。

　　4、蒸镀室
、预处理室放气



。

　　5、打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向关，逆时针方向开)，推拉杆推至大真空室中，将样品放到推拉杆上，将推拉杆拉回至预处理中。关闭闸板阀(顺时关闭

，逆时针开)

　　6




、打开快门控制电源，打开快门一


，更换钨丝(每做一次实验更换一次)
，将铝丝挂在钨丝上(5个，挂于弯折处)



，检查蒸镀所需材料


。

　　7、将掩膜版放置于掩膜版架上



。

　　8、打开机械A、机械B泵。打开四个真空计





，关闭放气阀。

　　9
、基片预处理(打开角阀)：当处理室真空度达到4.0E1 (4.0×10)Pa

　　时关闭预角阀，打开大真空室角阀
，再打开紫外轰击电源(直流溅射电源)



，调节电流0.025-0.030A。轰击10-15分钟(等预处理室与蒸镀室气压平衡，打开闸板)
。

　　10





、插入样品托
：再次打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向开，逆时针方向关)，将样品传送至蒸镀室
，用机械手抓取样品托


，并保持在机械手上;然后将将推拉杆拉回至预处理中

，关闭闸板阀;降低蒸镀台(注意样品托挡板位置)与机械手平齐


，将样品托轻轻推入蒸镀台下方的样品托导引槽(上方导引槽)

。

　　11


、插入掩模板




：将样品升降电源调到手动


，将蒸镀台旋转180度(用皮带精确定位)，用升降盒使蒸镀台最下方的掩模板导引槽与掩膜版库轨道，至于同一水平线上，用机械手将掩膜版轻轻推至蒸镀台的掩

　　模板导引槽

。

　　12
、当大真空室的压强为1.2E1的时候，关闭角阀
，打开闸板阀
。

　　13

、关闭机械泵A

，升起样品台

。

　　14、打开分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要两个小时)

。

　　15
、蒸镀过程
：打开快门总开关
，晶振开关(F1是清零
，F5是开始或停止)
。

　　16
、打开PID(束源炉)开关

，调节温度，依次蒸镀相关材料
，制备OLED器件。

　　17、关闭分子泵阀门，放气(真空室顶部放气按钮)
。打开真空室，取出样品。

　　18、关闭真空室，待分子泵数字为零时关闭分子泵后关闭机械泵B

，打开机械泵A的阀门，打开机械泵A抽低真空
。如果长时间不用时一定要关闭循环水冰柜电源，以防冻裂


。

推荐阅读

真空镀膜设备常用真空计介绍

PVD真空镀膜常见问题解析