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    电子产品溅射镀膜靶材知识
    发布时间  :2014-10-13 浏览     :4244 次

      电子产品在各行各业中都有所应用 ,而这些电子产品大部分都需要进行真空镀膜后才投入到市场之中,现在常用的真空镀膜设备是磁控溅射真空镀膜机,在这里 ,尊龙凯时人生就是搏来讲一下在溅射中所使用的靶材的知识。

      一般尊龙凯时人生就是搏使用的靶材3种类型 ,金属靶材  、合金靶材  、化合物靶材 。

      硬碟使用的靶材有很多  ,在记录面上镀上多层的薄膜      ,每层薄膜有各自的功效 ,在最底层  ,会镀上40nm厚的铬或者铬合金,增强结合力和抗腐蚀能力  ,中间再镀上15nm厚的钴铬合金 ,再镀上35nm厚的钴合金,作为磁性材料,这种材料可以充分体现磁性和低干扰的特性   ,最后再镀上15nm厚的碳薄膜   。

      磁头的溅射靶材常用的是铁镍合金,后来又增加了一些新的化合物材料 ,像氮化铁 、氮化铁钽,氮化铁铝等,这些都是优质的磁介质膜层靶材。

      CD碟片会用上铝膜作为反射层镀在塑料的工件上,但对于CDROM和DVDROM这些碟片  ,就不能使用铝膜了   ,因为在这些碟片上会有一层染料层       ,上面的物质对于铝而言具有一定的腐蚀性,一般会由金膜或银膜替代。

      光碟的膜层也是多层组成的,它在染料层上镀上30nm厚的铁钴合金记录层  ,里面混有非晶态稀土过渡元素,再镀上20到100nm厚的氮化硅介质层 ,最后镀上铝膜反射层。

      这些需要落得磁性能  ,能够记录数据的电子产品  ,要实现这些功能     ,还是要靠各种不同物质所溅射而成的薄膜  ,靠其成膜后显示出来的晶体状态排序来实现。

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