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    塑料真空镀膜设备的技术应用?
    发布时间   :2014-07-09 浏览:3889 次

      塑料真空镀膜设备的发展相当快   ,随着生产率的提高 ,生产费用大大降低    ,已经为真空镀膜产品的普遍使用铺平了道路。

      以卷绕式真空镀膜机为例,刚开发时可镀的薄膜基材宽度是150mm,目前已达2253mm  。基材卷筒的最大卷径是1000mm   ,最大卷绕速度750m/min  。

      自动装卸的半连续卷绕式真空镀膜机镀膜时间占整个周期的75%   ,辅助操作时间只占25%  。

      效率更高的从大气到大气的卷绕式真空镀膜机已于1977年出售 。

      随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用,卷绕式真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展 。

      卷绕式真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2μm    ,可以在这个范围内选择     ,有的还可以镀多层膜   ,满足多种需要 。日本专利提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置 。

      该装置的真空室分为上室 ,左下室和右下室  。蒸镀时  ,两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上 ,在塑料薄膜没有蒸镀的一侧,装上辉光放电发生器。

      发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱 。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜  ,用于制磁带和薄膜太阳能电池等 。该装置示意图见图1

      近年来 ,高速低温溅射法发展很快  ,使高熔点金属如铬、钛 、钨、钼等的沉积成膜成为可能  。

      镀膜室直径1400mm   ,高2200mm的大型钟罩式溅射镀膜机和长13mm  ,宽7.6mm的大型串列式溅射镀膜机已投入使用 。

      最近,日本专利提出一种卷绕式溅射镀膜机 ,该机可镀两种不向的镀膜材料,并在第一溅射区和第二溅射区之间装温度控制装置 ,加强对基材的冷却 ,保证在镀膜层较厚和沉积速度较快的情况下              ,基材不会发生卷缩和变形  。

      真空室装有溅射靶和阳极   ,两个靶分别与直流电源(5a,5b)相接,对塑料薄膜(8)进行溅射  。辊筒有各自的冷却温度。

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