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蒸发镀膜设备运行与维护 |
发布时间:2014-03-19 浏览:4659 次 |
蒸发镀膜设备工作方式就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发、升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺.
在真空条件下成膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
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