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真空镀膜机有哪些主要特点与用途? |
发布时间:2014-02-08 浏览:5469 次 |
真空镀膜机由真空镀膜室、蒸发源、真空机组、卡具、蒸发电源、控制系统与辅助装置等组成。 主要特点: 1、配有石英晶体或光学膜厚控制仪,可以实现膜厚镀膜自动控制,实现高精度的镀膜效果。 2、配RF离子轰击装置达到净化基体表面的作用,使膜与基体表面附着力更好,提高膜层的强度。 3、可同时蒸镀两种以上不同的蒸镀材料,可制成复合膜。 4、操作简便、适应生产、科研的理想机。 5、具有过流、过压保护及断水、欠压保护及电气互锁的功能。
真空镀膜机可采用电阻加热式蒸发源、电子束加热式蒸发源和感应加热式蒸发源。可以蒸发金属、金属氧化物和非金属氧化物,适用于电子工业、光学工业的导电膜、光学膜、滤光膜、装饰膜等
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